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EUV光刻机, 中科院官宣, 这相当于确认了

作者:admin    文章来源:未知    点击数:    更新时间:2022-08-16 14:30

当芯片的制造工艺进入到7纳米或者5纳米时,就需要EUV光刻机上场,到不是因为DUV光刻机无法完成制造任务,主要是考虑到商业成本,EUV光刻机是一个更好的选择。

所以从商业量产的角度来看,EUV光刻机是必要的,但是大家也了解,在EUV光刻机上,目前只有ASML一家可以提供,但是受到美科技霸权的制约,其无法对我们进行交货。

不过之前中科院方面就已经表示,要对卡脖子的光刻机问题进行解决,很显然,这是直指EUV光刻机。

对光刻机有所了解的朋友会知道,EUV光刻机与DUV光刻机的明显区别,就是光源的不同,一个是极紫外光源,另一个是深紫外光源。

所以对于EUV光刻机的研发来说,光源是最为重要,也是最为艰难的部分。

而现在,我们就看到了这方面的新动态。

根据中科院官方发布的信息来看,其在EUV光刻机方面开始进行多层次的招聘工作,这涉及到多个岗位,分别是:

热结构设计师,负责EUV光源项目的热结构及真空等设计研发工作

激光与物质相互作用研究,负责EUV光源相关物理实验和理论研究。

EUV光源自控系统设计。

EUV光机结构设计。

EUV光学设计、建模、模拟仿真、集成系统或设备的EUV光学模块以及光学性能鉴定和故障排除。

可以看到,在EUV光刻机的光源部分,中科院已经将其进行了细致的分解,然而这只是普通员工的工作,在EUV光刻机上,还有特别研究助理的工作,而且全部要求博士后,其中包括:

极紫外到X光波段光源的研究。

光刻机EUV光源产生理论和实验研究。

EUV极紫外光源元件超精密制造与检测技术。

因此综合来看,中科院在EUV光刻机的关键部分,也就是EUV光源上的研发,相当于已经确认进入了实质阶段。

这当中包含了两层含义:

其一,此次中科院公布了如此详细的用人计划和标准,这显然表示中科院已经在该方面展开了研发工作,确定了研发的方向和标准,不是一拍脑袋一片空白,空喊研发口号。

其二,此次的用人计划,在用人规模上并不大,这些岗位都是只有1到2个人的需求,大部分岗位只有1个人的需求,因此这表示,针对EUV光刻机光源的研发,此次从社会面招聘,只是人才的补充。

因为在关键的EUV光源产生研究、光源加速器研究以及超精密元件研究等方面,都有相关研究员在进行,新进员工只是特别研究助理,而且还是博士后级别。

我们还关注到,此次对于EUV光源的产生研究上,其实也包括对波长更短的X光波的研究,也就是说,中科院已经在布局EUV光刻机的下一代技术。

因此结合来看,在EUV光刻机最艰难的EUV光源上,中科院已经进行了系统而全面的拆解,并形成研发任务和方向,而且相关项目已经分配到人。

现在来看,增加相关项目的人员数量,就是一次对各个细分项目的全面展开,这也再次说明了,在EUV光刻机的研发上,中科院已经进入实质阶段,不是计划阶段,也不是方案阶段,更不是PPT阶段,是实实在在的“破局”阶段了。




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